M4型全譜直讀光譜儀采用標準的設計和制造工藝技術(shù)，全數(shù)字化及互聯(lián)網(wǎng)技術(shù)結(jié)合，運用高分辯率CMOS檢測器，精密設計的氬氣吹掃系統(tǒng)，使儀器具有較高的性能、較低的成本以及極具競爭力的價格。

應用領(lǐng)域：

鋼鐵行業(yè)、有色金屬、合金鑄造、機械加工、商檢質(zhì)檢、材料研究

檢測基體：

多基體

主要技術(shù)參數(shù)：

技術(shù)特點：

M4應用于多基體的、高性能的全譜直讀光譜儀

01 優(yōu)異的分析性能、非常緊湊的儀器結(jié)構(gòu)

02 用于多種基體、多種材料的分析，分析范圍覆蓋了幾乎所有的重要元素，可以滿足絕大多數(shù)現(xiàn)代鑄造業(yè)的應用需求。

03 高亮度全息光柵具備3600條/mm刻線，使得分光系統(tǒng)具有高的分辨率。

04 氬氣吹掃光室配置了優(yōu)化設計的低流速吹氬系統(tǒng)，既保證低的使用成本又保證紫外區(qū)的透過率。

05 應用高分辯率多CMOS讀出系統(tǒng)，較低的暗電流、較好的檢出限、較高的穩(wěn)定性、較強的靈敏度。

06 全數(shù)字化的智能復合光源DDD技術(shù)，充分滿足不同基體、不同樣品以及不同元素的激發(fā)要求。

07 一體式開放火花臺，可以滿足各種不同樣品結(jié)構(gòu)的分析。

08 配置多條工廠校正曲線及更多的材料分析方法和先進的解決方案。

09 可根據(jù)用戶的材料要求，延長標準曲線的測量上、下限。
精密設計的氬氣吹掃系統(tǒng)

光室密封性強，可保持內(nèi)部氬氣長期純凈。

光室空間優(yōu)化設計，降低氬氣消耗，有效節(jié)約產(chǎn)生成本。

低氬氣吹掃系統(tǒng)，確保光室UV波段測量環(huán)境。

光室充氬免除復雜的真空系統(tǒng)。
高分辯率CMOS檢測器實現(xiàn)全譜分析

譜線覆蓋了所有的重要元素，滿足所有基體和材料的分析。

高靈敏的紫外區(qū)檢測，對N的分析檢測更準確。

可有效選擇元素靈敏線，保證分析的準確度。

多峰擬合技術(shù)，有效消除譜線干擾，實現(xiàn)精準測量。
分析軟件功能強大

1)基于Windows系統(tǒng)的多國語言的CCD全譜圖形化分析軟件，方便實用；

2)全方位管理的控制整個測量過程及為用戶提供強大的數(shù)據(jù)處理能力和測試報告輸出能力；

3)儀器可配置多條工廠校正曲線及更多材質(zhì)分析及先進解決方案；

4)軟件實現(xiàn)全譜檢測、智能扣干擾、扣暗電流、背景和噪聲的算法，提高儀器的分析能力；

5)完備的自動系統(tǒng)診斷功能；

6)完善的數(shù)據(jù)庫管理功能，可方便查詢、匯總數(shù)據(jù)；

7)智能校正算法，保證儀器穩(wěn)定可靠；

8)完備的譜線信息和干擾扣除算法，保證儀器分析更為精準；

9)適應Windows操作系統(tǒng)。